专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种纳米间隙电极的制备方法-CN200710062832.6无效
  • 刘云圻;魏大程;曹灵超;李祥龙;王钰;张洪亮;石大川;于贵 - 中国科学院化学研究所
  • 2007-01-18 - 2008-07-23 - H01L21/28
  • 一种纳米间隙电极制备方法,步骤如下:在不受电子束破坏的纳米材料上制备具有较大间隙的电极对;在电极对的表面吸附电子束诱导沉积的原料分子;将电子束聚焦在电极对的间隙区域;当电极间隙达到所需的宽度时,停止电子束照射,制备得到纳米间隙电极。本发明与传统的方法相比,可以在制备过程中原位观察电极间隙,从而可以精确控制纳米间隙电极的间隙。同时操作方便,简易可行,成功率高,有利于提高纳米间隙电极的制备效率,制备的纳米间隙电极的间隙范围很大,可以为2纳米至100纳米,这对于纳米以及分子器件的制备和应用有非常重要的意义。
  • 一种纳米间隙电极制备方法
  • [发明专利]悬浮金属纳米间隙对结构的制备方法-CN201610191808.1有效
  • 顾长志;王玉瑾;李俊杰;全保刚 - 中国科学院物理研究所
  • 2016-03-30 - 2017-12-15 - B82B3/00
  • 本发明提供了一种悬浮金属纳米间隙对结构的制备方法,属于纳米间隙领域,其步骤包括在清洗好的硅衬底基片上,沉积预定厚度的氮化硅薄膜;旋涂光刻胶,采用电子束曝光方法在所述光刻胶上制备具有预定图形的纳米桥结构;采用反应离子刻蚀方法将所述图形转移至所述氮化硅薄膜上,得到纳米间隙对结构;采用湿法腐蚀方法部分去除所述纳米间隙对结构下的硅,得到悬浮的纳米间隙对结构;采用镀膜方法在所述悬浮的纳米间隙对结构上沉积一层金属薄膜,从而获得悬浮金属纳米间隙对结构。本发明提供的一种新的悬浮金属纳米间隙对结构的制备方法,可以获得可重复性好、稳定性好的悬浮金属纳米间隙对结构。
  • 悬浮金属纳米间隙结构制备方法
  • [发明专利]一种纳米间隙的制备方法-CN201710010578.9在审
  • 李俊杰;潘如豪;刘哲;全保刚;顾长志 - 中国科学院物理研究所
  • 2017-01-06 - 2017-06-13 - G03F7/00
  • 本发明提供了一种纳米间隙的制备方法,包括如下步骤提供一基底,在基底的表面处施加第一光刻胶层,并得到第一光刻胶图形;按照第一光刻胶图形在基底处沉积第一材料,或者将基底刻蚀预定深度;去除第一光刻胶层,以获得具有第一厚度的第一材料层,或者以获得由基底自身形成的凸起层;以预定入射角度沉积具有第二厚度的第二材料,以在第一材料层和第二材料层之间形成纳米间隙;其中,通过调节第一材料层的第一厚度以及预定入射角度,以改变纳米间隙的尺寸。本发明的制备方法能够使得纳米间隙间隙尺寸在纳米范围内精确可控,并获得任意需要的间隙尺寸的纳米间隙,尤其可以获得小于5nm的纳米间隙。而且本发明适用于纳米间隙的大面积制备。
  • 一种纳米间隙制备方法
  • [发明专利]纳米孔表面和孔内制备纳米间隙电极的方法-CN201110285898.8有效
  • 叶晓峰;刘丽萍;吴宏文;孔婧琳;陆祖宏;刘全俊;易红 - 东南大学
  • 2011-09-23 - 2012-05-09 - G01N27/30
  • 本发明涉及在纳米孔表面和孔内制备纳米间隙电极的方法,可以实现二维双通道同时检测分子过孔的信号变化,提高纳米孔测序的精确度。所述在纳米孔表面制备纳米间隙电极的方法是:在基材表面形成线宽度为微米级金属线,将金属线刻蚀成线宽度为纳米级,然后在对应于纳米级线宽的金属线位置,在基材上刻蚀出贯穿的纳米孔,同时蚀断金属线,从而直接在纳米孔孔口形成表面纳米间隙电极作为本发明的改进,在基材表面形成线宽度为微米级金属线,将金属线刻蚀至线宽度为10-50nm,然后在金属线上刻蚀,形成相对的电极,并在基材上对应于纳米间隙的位置刻蚀出贯穿的纳米孔,最后使金属线向纳米孔边缘生长,从而在纳米孔孔口形成表面纳米间隙电极。
  • 纳米表面制备间隙电极方法
  • [发明专利]一种新型纳米银复合导电薄膜-CN201611093695.8在审
  • 潘中海;司荣美;刘彩风 - 天津宝兴威科技股份有限公司
  • 2016-12-02 - 2017-05-31 - H01B5/14
  • 本发明是一种新型纳米银复合导电薄膜,包括基板,基板上间隔设有若干独立的纳米银电极,相邻纳米银电极之间形成电极间隙,基板上的电极间隙对应位置处分布有光散射粒子,所述光散射粒子为纳米银、纳米二氧化硅、纳米二氧化钛中一种或者几种,在以上纳米银电极、电极间隙处的光散射粒子层、基板的表层设有石墨烯层。本发明的有益效果是本发明通过在电极间隙对应位置处设置光散射粒子,使得纳米银电极与电极间隙对应位置处雾度差值缩小到合理水平;石墨烯层的设置一方面使纳米银导电薄膜实现满版连续导电,一方面防止纳米银电极脱落、
  • 一种新型纳米复合导电薄膜

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